三氟甲基磺酸钡溶液，化学成分可表示为 (H₂O)₃(Hg)C₂BaF₆O₆S₂，由碳酸钡、汞、三氟甲基二硫醚和水在化学反应釜或大型化学反应釜中于UVA卤素灯的照射作用下反应制得，反应需要最低 HV 级电压（480 EU/t）发生，未超频状态下每生成 3,000 mB 三氟甲基磺酸钡溶液耗时 12 秒。反应方程式：

BaCO₃ + Hg + C₂F₆S₂ + 3 H₂O =(UVA)= (H₂O)₃(Hg)C₂BaF₆O₆S₂ + C

三氟甲基磺酸钡溶液可在离心机中被重新分离，生成上述反应中消耗的汞和水以供回归上一步循环利用，同时析出主要成分三氟甲基磺酸钡（Ba(OSO₂CF₃)₂）以供进一步反应处理。