16安EV能源仓
UV输入仓
256安ZPM激光靶仓
LuV并行控制仓
可配置维护仓
ZPM流体通行仓
4安UV能源仓
EV消声仓
LV物品通行仓
256安IV激光靶仓
4096安IV激光源仓
物品总线
水泵仓
ZPM Nonuple Input Hatch
1024安LuV激光靶仓
HV转子支架
EV动力仓
HV能源仓
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耗子
C11H22O11
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WDday
独孤达人
IV并行控制仓 与 并行控制仓 为同类物品/方块。
简介
并行控制仓,一类允许多方块机器同时处理多个配方的多方块组件,分别存在电压等级为 IV ~ UV 级的并行控制仓。
来源
由下列原料通过有序合成,制得并行控制仓:
1 个相应电压等级的机器外壳;
1 个相应电压等级的发射器;
1 个相应电压等级的传感器;
2 个相应电压等级材料的 2x 线缆;
4 个任意一种电压等级更高一级的电路。
用途
并行控制仓能够被安装在由单方块机器拓展而来的多方块机器中,具体包括下列多方块机器:大型研磨塔、大型化学浸洗机、大型离心机组、大型搅拌罐、大型电解槽、大型电磁工厂、大型打包机、大型组装厂、大型电路组装设施、大型电弧炉、大型激光蚀刻机、大型筛选漏斗、大型高压结晶室、大型挤压机、大型酿造厂、大型切割机、大型分馏蒸馏厂、大型提取机、大型压模机、大型固化阵列、大型线材工厂、转底炉、巨型真空冷冻机。
每台多方块机器上最多仅能够安装一个并行控制仓。并行控制仓允许其构成的多方块机器同时执行多倍的配方,具体的倍率值可通过并行控制仓的 GUI 来配置,默认为 1 倍(不并行处理)。在配置界面中,按下左侧或右侧按钮可使倍率值 -1 或 +1,按住 Shift 键来以 8 倍速度调整,按住 Ctrl 键来以 64 倍速度调整,同时按下 Shift + Ctrl 键来以 512 倍速度调整,可配置的倍率上限为 (4 ^ (Tier - 4)) 倍。
多方块机器并行处理配方时,在相同的时间内消耗多倍的原料和多倍的功率,产出多倍的产物。不同的配方无法并行处理。
[使用: 工作台]
IV传感器 * 1
标签: c:luv_circuits * 4
IV发射器 * 1
IV机器外壳 * 1
2x铂线缆 * 2
↓
IV并行控制仓 * 1