稀六氟硅酸，化学成分可表示为 (H₂O)₂(H₂SiF₆)，由污浊的六氟硅酸在离心机中分离而成，需要最低 MV 级电压（100 EU/t）执行，未超频状态下每生成 3,000 mB 稀六氟硅酸耗时 2 秒，作为石头粉提纯流程的副产物出现。

由稀六氟硅酸在蒸馏室或蒸馏塔中分离，即可制得可直接利用的氟硅酸（H₂SiF₆）以及水。