矿物词典: dustPolydimethylsiloxane (3)
聚二甲硅氧烷粉，化学式为 C₂H₆OSi，在化学反应釜中有以下三种制备途径，都仅需 MV 级电压（96 EU/t）即可运行：
由二甲基氯硅烷和水反应制得，同时产出 1 B 稀盐酸。化学方程式：
C₂H₆Cl₂Si + H₂O = C₂H₆OSi + 2 HCl
由硅粉、甲醇反应制得，生成的水和反应物盐酸结合产出 2 B 稀盐酸。化学方程式：
Si + 2 CH₄O = C₂H₆OSi + H₂O
由硅粉、氯气、甲烷和水反应制得，同时产出 2 B 盐酸和 2 B 稀盐酸。化学方程式：
Si + H₂O + 2 Cl₂ + 2 CH₄ = C₂H₆OSi + 4 HCl
聚二甲硅氧烷粉可以在化学反应釜中与硫粉发生进一步反应，制得硅橡胶。
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| 资料分类： | 材料:粉 |
| 最大叠加： | 64个 / 组 |
| 材料统计 | 输入 >> 输出 | 备注 |
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[使用: 工作台] 矿词: dustSmallPolydimethylsiloxane * 4 ↓ 聚二甲基硅氧烷粉 * 1 |   | |
[使用: 化学反应釜] 二甲基氯硅烷 * 1,000 mB 水 * 1,000 mB ↓ 聚二甲基硅氧烷粉 * 3 稀盐酸 * 1,000 mB |     | |
[使用: 化学反应釜] 矿词: dustSilicon * 1 盐酸 * 2,000 mB 甲醇 * 2,000 mB ↓ 聚二甲基硅氧烷粉 * 3 稀盐酸 * 2,000 mB |        | |
[使用: 打包机] 矿词: dustTinyPolydimethylsiloxane * 9 (不消耗) 编程电路 ↓ 聚二甲基硅氧烷粉 * 1 |    | 编程电路配置:==1 |
[使用: 打包机] 矿词: dustSmallPolydimethylsiloxane * 4 (不消耗) 编程电路 ↓ 聚二甲基硅氧烷粉 * 1 | | 编程电路配置:==2 |
[使用: 化学反应釜] 矿词: dustSilicon * 1 (不消耗) 编程电路 水 * 1,000 mB 氯 * 4,000 mB 甲烷 * 2,000 mB ↓ 聚二甲基硅氧烷粉 * 3 盐酸 * 2,000 mB 稀盐酸 * 2,000 mB |   |
